CVD化學(xué)氣相沉積爐是制備C/C復(fù)合材料的關(guān)鍵技術(shù)裝備。

感應(yīng)加熱CVD化學(xué)氣相沉積爐設(shè)備采用中頻感應(yīng)加熱，設(shè)備采用立式，爐底升降進(jìn)出料結(jié)構(gòu)。溫控系統(tǒng)選用日本島電（或同檔次一線品牌）智能程序控溫儀控溫，全套設(shè)備包含爐體、中頻電源、電控系統(tǒng)、氣體控制系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)等組成。

1) 爐型結(jié)構(gòu)：立式圓筒形，爐底升降裝出料。

2) 加熱方式：中頻感應(yīng)加熱

3) 工作溫度：2200℃；

4) 常用溫度：850~1150℃；

5) 爐溫均勻性：900±25℃，1100±12.5℃

6) 控溫方式：智能溫控儀表（日本島點(diǎn)FP23或同等品牌儀表）程序自動(dòng)控溫和手動(dòng)調(diào)功控溫兩種方式；

7) 工作區(qū)尺寸：φ1200×H2500mm（直徑×高）；

8) 裝載量：＜2T； 

9) 升溫時(shí)間：6~8h（室溫~1200℃）；

10) 加熱功率：300kw；

11) 控溫精度：升溫過(guò)程±2℃，保溫過(guò)程±1℃；

12) 真空度：≤50Pa（配置4套H150滑閥泵）；

13) 抽氣時(shí)間：＜50min(空爐冷態(tài)抽氣達(dá)到50Pa)

14) 空爐冷態(tài)壓縮率：≤66.7Pa/h

15) 可充氣氛：氮?dú)狻N類含碳?xì)怏w；

16) 進(jìn)氣方式：頂部中間；

17) 充氣流量：300L/min；

18) 連續(xù)工作時(shí)間：＞300h；

19) 冷水流量：30m3/h; 冷水壓力：0.15～0.25MPa。

20）設(shè)備占地空間：6000×6000×6000mm(長(zhǎng)×寬×高)。

漢和工業(yè)感應(yīng)加熱CVD化學(xué)氣相沉積爐接受非標(biāo)定制。